6月27日消息,铠侠最近公布了3D NAND闪存发展蓝图,目标2027年实现1000层堆叠。
自2014年以来,3D NAND闪存的层数经历了显著的增长,从初期的24层迅速攀升至2022年的238层,短短8年间实现了惊人的10倍增长。铠侠正是基于这种每年平均1.33倍的增长速度,预测到2027年达到1000层堆叠的目标是完全可行的。
在3D NAND闪存技术的竞赛中,铠侠展现出了对层数挑战的坚定决心,其目标似乎比三星更为激进。三星虽也计划在2030年之前推出超过1000层的先进NAND闪存芯片,并计划引入新型铁电材料来实现这一目标,但铠侠却更早地设定了具体的实现时间表。
去年,铠侠推出了BiCS8 3D NAND闪存,其层数高达218层,采用1Tb三层单元(TLC)和四层单元(QLC)技术,并通过创新的横向收缩技术,成功将位密度提高了50%以上。
若要实现2027年1000层堆叠的宏伟目标,铠侠可能会进一步探索五层单元(PLC)技术的应用。
值得注意的是,提高3D NAND芯片的密度并非仅仅意味着增加层数,更涉及到制造过程中可能遇到的一系列新问题和技术挑战。
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